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描述:CMP 抛光液研发装置是专门用于开发和优化 CMP 抛光液的关键设备。
标题:CMP抛光液研发装置
产品概述
小型反应釜:用于进行各种化学合成和调配实验。
精密计量系统:能够精确控制各种原材料的添加量,确保配方的准确性。
多模式搅拌系统:提供不同的搅拌速度和方式,以模拟不同的反应条件。
温度和压力调节系统:可实现精确的温度和压力控制,满足多样化的实验需求。
在线监测仪器:如粒度分析仪、pH 计、粘度计等,实时监测抛光液的性能参数。
样品采集和分析系统:方便随时采集样品进行离线的深入分析。
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